高端光刻机生产商asml是生产CPU的么

来源：蜘蛛抓取(WebSpider) 时间：2018-05-04 08:17 标签： 国内生产光刻机的公司
我国能生产光刻机吗？答案绝对会出乎你的意料我国能生产光刻机吗？答案绝对会出乎你的意料大华聊娱乐百家号我们国家可以生产，最高可以生产大概是60纳米左右的，对32纳米来说，不知道要等几年；实验室可以流片多少纳米未知，全球来说，ASML是欧洲跟美洲几十个国家企业一起出资供养的，原来日本可以生产，后来投入太大，被终止了，现在能适应市场的就只有ASML生产的光刻机，其它公司生产出来也没什么用的；在2018年今年7纳米光刻机就有了，2020年就是4纳米，2022年就有2纳米，这些都是生产线的计划，光刻机的进度是在生产线之前；最大的问题是ASML的研发速度这么快，是大量资金跟资源堆出来的；我国向追上去，很难，除非有其它特别的突破，不然先进制程永远无法民用。本文仅代表作者观点，不代表百度立场。系作者授权百家号发表，未经许可不得转载。大华聊娱乐百家号最近更新：简介:大华聊娱乐，每日视频精彩推荐作者最新文章相关文章查看: 584|回复: 6
芯片制造的核心-光刻机
　　指甲盖大小的芯片，密布千万电线，纹丝不乱，需要极端精准的照相机——光刻机。光刻机精度，决定了芯片的上限。高精度光刻机产自ASML、尼康和佳能三家；顶级光刻机由ASML垄断。
　　“十二五”科技成就展览上，上海微电子装备公司（SMEE）生产的中国最好的光刻机，与中国的大飞机、登月车并列。它的加工精度是90纳米，相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。国外已经做到了十几纳米。
　　祖传的磨镜手艺
　　光刻机跟照相机差不多，它的底片，是涂满光敏胶的硅片。电路图案经光刻机，缩微投射到底片，蚀刻掉一部分胶，露出硅面做化学处理。制造芯片，要重复几十遍这个过程。
　　位于光刻机中心的镜头，由20多块锅底大的镜片串联组成。镜片得高纯度透光材料+高质量抛光。SMEE光刻机使用的镜片，得数万美元一块。
　　ASML的镜片是蔡司技术打底。镜片材质做到均匀，需几十年到上百年技术积淀。
　　“同样一个镜片，不同工人去磨，光洁度相差十倍。”SMEE总经理贺荣明说，他在德国看到，抛光镜片的工人，祖孙三代在同一家公司的同一个职位。
　　另外，光刻机需要体积小，但功率高而稳定的光源。ASML的顶尖光刻机，使用波长短的极紫外光，光学系统极复杂。
　　3万个机械件都要可靠
　　有顶级的镜头和光源，没极致的机械精度，也是白搭。光刻机里有两个同步运动的工件台，一个载底片，一个载胶片。两者需始终同步，误差在2纳米以下。两个工作台由静到动，加速度跟导弹发射差不多。
　　贺荣明说：“相当于两架大飞机从起飞到降落，始终齐头并进。一架飞机上伸出一把刀，在另一架飞机的米粒上刻字，不能刻坏了。”
　　而且，温湿度和空气压力变化会影响对焦。“机器内部温度的变化要控制在千分之五度，得有合适的冷却方法，精准的测温传感器。”贺荣明说。
　　SMEE最好的光刻机，包含13个分系统，3万个机械件，200多个传感器，每一个都要稳定。像欧洲冠军杯决赛，任何一个人发挥失常就要输球。
　　图纸不是关键
　　2002年SMEE成立，是中国政府为了填补光刻机空白而立项。贺荣明去德国考察时，有工程师告诉他：“给你们全套图纸，也做不出来。”贺荣明几年后理解了这句话。
　　并不是说图纸不重要，贺荣明说，如何将系统的误差分配到子系统，设计有高下之分。但顶级光刻机也需要细节上的技术洁癖。“一根光纤，一行软件编码，一个小动作，如果不兢兢业业做好，整个系统就不优秀。”贺荣明说。
　　“发展光刻机，需要高素质的人群。所以我们做来做去，做最多的是培养人，改变人。”贺荣明说，这需要他们用五十年一百年的长远眼光去做事情，而不是期望几个月解决问题。
　　如今SMEE每年增加数百项专利，活得很好，以中低端市场支持高端研发。而国际巨头仍在前进，发展浸没式光刻机（光在水中波长更短）、磁悬浮驱动（减少工作面震动）、反射镜代替透镜技术、真空腔体的极紫外光学系统……　　　　　　　　　　
所以像光刻机，蒸镀机，还有多轴机床这些机器才是根本。很多人只看到苹果三星产品销量大，却不知道背后的故事，只有德国和日本才有的技术
光刻机中国造不出来 一开始就落后的东西 造出来也落后20年 追到同等水平40年持平
最有可能的追赶路径是:在耐心追击中沉淀人才和技术积累，守望技术革命契机弯道超车
不要一个中兴事件就把国际合作抛弃了。下一代光刻机。日本两家企业也不搞了。不但中国搞不出来。美国也搞不出来。
好的就荷兰那家吧，年产量也很少，华为也不过是有生产能力还是台积电代工的，何况新的7nm的技术
光刻机主要是荷兰和日本制造，现在最先进的当属荷兰的
嘎里个兄弟们！进来望啊子啥~
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法律顾问：北京市邦盛（泰州）律师事务所吴桂宽律师 电话：挥刀进军10nm！台积电将引进EUV光刻机
日 10:28&&&转载：&& 作者:上方文Q&&
　　泡泡网CPU频道11月27日&光刻系统供应商荷兰ASML近日宣布，台积电已经订购了两台量产型的NXE:3350B EUV极紫外光刻机，将在2015年交付使用。　　 具体报价没有公布，但据称应该接近1亿美元级别——同样是ASML EUV光刻机客户的(还有IBM、)认为合理价格应在2000万美元左右。　　 另外，台积电此前已经购买的两台NXE:3300B也将在ASML的协助下，升级到与NXE:3350B相同的水平。　　 据了解，台积电购买的EUV极紫外光刻机初期将用于300毫米晶圆、10nm工艺，未来还会考虑导入到450毫米晶圆上(目前只有做出来了)。　　 今年第三季度，台积电在EUV技术上的晶圆曝光速度已经达到每天600块，如果顺利的话2016年可达1500块每天。　　 台积电的10nm工艺虽然还在理论研究阶段，但已经有10多家客户基于它进行了产品设计，涉及基带、GPU、服务器芯片、游戏机、FPGA等等，预计2015年下半年就会有客户完成流片，2015年底试产，2016年底或者2017年量产。　　 按照台积电董事长张忠谋的说法，10nm可以比16nm FinFET工艺带来25％的性能提升、45％的功耗下降、120％的栅极密度增加。■
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