SI O-RJWN是什么手机?

据魔方格专家权威分析试题“N、O、Si、S重要的非金属元素,下列说法正确的A.N、O、S、)原创内容未经允许不得转载!

采用射频磁控溅射法在RB SiC陶瓷基片仩制备了无定型Si-C-O-N涂层,利用XPS分析了涂层的组成元素以及相应的结合状态.结果表明:离子轰击对Si、C和N的化学位移影响较大:经过离子轰击后Si-C和Si-N键所占比例上升,而Si-O键则稍有减少; C Sp<'2>有所上升,而C-Si键和C-N键则有所下降;N-Si键上升,而N-C键略有下降.溅射功率对涂层组成的影响很大:随着溅射功率的增加,Si元素结匼能增加,这主要溅射产额增加的缘故,而N元素的含量则迅速上升,这主要归因于高溅射功率下N-Si键的增加和更多N-C键的结合.

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