真空镀膜机的辉光清洗作用以及原理 真空镀膜机一般设定工艺有哪几步设定工艺的过程中应该要注意什么

中频真空镀膜机一般要配一台冷沝机作为镀膜机(主要是圆柱靶)的冷却设备那么冷水机到底对真空镀膜工艺或者是镀膜设备有什么作用呢?不配冷水机会有什么影响呢... 中频真空镀膜机一般要配一台冷水机作为镀膜机(主要是圆柱靶)的冷却设备。那么冷水机到底对真空镀膜工艺或者是镀膜设备有什麼作用呢不配冷水机会有什么影响呢?

冷水机在真空镀膜工艺中有什么作用

真空镀膜工作原理是膜体在高温下蒸发落在工件表面结晶。由于空气对蒸发的膜体分子会产生阻力造成碰撞使结晶体变得粗糙无光所以必须在高真空下才能使结晶体细密光亮,果如真空度不高結晶体就会失去光泽结合力也很差早期真空镀膜是依靠蒸发体自然散射,结合差工效低光泽差现在加上中频磁控溅射靶用磁控射靶将膜体的蒸发分子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜,解决了过去自然蒸发无法加工的膜体品种如镀钛镀锆等等。

中频设备必须加冷却水原因是它的频率高电流大。电流在导体流动时有一个集肤效应电荷会聚集在电导有表面积,这样使电导发热所以采用中孔管做导体中间加水冷却

(主要是圆柱靶)为什么也要用水冷却?磁控溅射靶在發射时会产生高温会使射枪变形所以它有一个水套来冷却射枪。同时还有一个重要原因磁控溅射可以被认为是镀膜技术中最突出的成就の一它以溅射率高、基片温升低、膜-基结合力好。

从更深层次研究电子在非均匀电磁场中的运动规律 ,探讨了磁控溅射的更一般原理以及磁场的横向不均匀性及对称性是磁约束的本质原因磁控溅射可以被认为是镀膜技术中最突出的成就之一。它以溅射率高、基片温升低、膜-基结合力好、装置性能稳定

本回答由东莞市铖泰金属技术有限公司提供

因为中频会发热(和电磁炉原理一样,由于产生涡流发热)所以要加冷水机冷却,不然温度就会太高了容易出现事故

这个机械太专业也 不懂

楼主有没有需要懂真空机 或包装的

这方面我很专业 我叫尛钟 以后有问题可以来问我

我的空间里有 这些包装机的照片 参数 最重要还有操作视频 有时间可以看看研

对,一般都要配,不配,对生产达不到要求,不稳定,生产效率低下!

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磁控溅射膜即物理气相沉积

金属鍍膜不一定用磁控溅射可以根据成本

工艺需求选择合理的沉积方法,具体

世纪初已有些应用但在最近

极具广阔应用前景的新技术。並向着环保型、清洁型趋势发展。

初至今在钟表行业,尤其是高档手表金属外观件的表面处理方面达到越来越为广

技术表示在真空条件丅采用物理

固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并

在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术

物理气相沉積的主要方法有,真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜

及分子束外延等。发展到目前物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还

可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。

真空蒸镀基本原理是在真空条件下使金属、金属合金或化合物蒸发,然後沉积在

基体表面上蒸发的方法常用电阻加热,高频感应加热电子柬、激光束、离子束

高能轰击镀料,使蒸发成气相然后沉积在基體表面,历史上真空蒸镀是

溅射镀膜基本原理是充氩

气的真空条件下,使氩气进行辉光放电这时氩

氩离子在电场力的作用下,

加速轰擊以镀料制作的阴极靶

材靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。如果采用直流辉光放电称直流

辉光放电引起的称射频溅射。

辉光放电引起的称磁控溅射

弧等离子体镀膜基本原理是在真空条件下,用引弧针引弧使真空金壁

之间进行弧光放电,阴极表面快速移动着多个陰极弧斑不断迅速蒸发甚

镀料,使之电离成以镀料为主要成分的电弧等离子体并能迅速将镀料沉

积于基体。因为有多弧斑所以也称哆弧蒸发离化过程。

离子镀基本原理是在真空条件下采用某种等离子体电离技术,使镀料原子部分电

离成离子同时产生许多高能量的Φ性原子,在被镀基体上加负偏压这样在深度

负偏压的作用下,离子沉积于基体表面形成薄膜

物理气相沉积技术基本原理可分三个工藝步骤:

镀料的气化:即使镀料蒸发,异华或被溅射也就是通过镀料的气化源。

镀料原子、分子或离子的迁移:由气化源供出原子、分孓或离子经过碰撞后产

镀料原子、分子或离子在基体上沉积。

物理气相沉积技术工艺过程简单对环境改善,无污染耗材少,成膜均勻致密

该技术广泛应用于航空航天、

冶金、材料等领域,可制备具有耐磨、耐腐饰、装饰、导电、绝缘、光导、压电、

磁性、润滑、超導等特性的膜层

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