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关于镁合金微弧氧化的疑问
:tiger09:做镁合金的微弧氧化，有学长说电解液只能用一两次，求教高人是否确实只能用一两次，最好能告知小弟原因。
我的电解液成分是NaSiO3、KOH、KF
这个只用一两次是最好的，应为在微弧氧化过程中，电解质会损耗，PH值可能会变化，不利于后面的氧化，如果同一组样品多的话，每次一两个样就换电解液，消耗的药品太多了，划不来& &呵呵
& &&&你这个电解液的我没用过，所以不太清楚，如果用了一两次之后，电压升不上去了，或者不能成膜，亦或成的膜表面不好看了，建议换电解液
你好。我们的电解装置很小，电解液比较少，所以电解液失效也很快。
装置比较小，所以电解液只有10L。为了保证成膜效果所以电解液更换的比较勤。
10L& & 这个要是每个样换一次，那多难配溶液呀~~~
还好，既然条件比不上，那就得手勤快点。选择了科研，就是选择了勤奋和坚持，大家不都是这样的么？:tiger38:
呵呵&&嗯，是感觉有点浪费药品:hand::hand:
你这电解液三百多升做多大面积的微弧氧化层？西安理工做微弧氧化挺有名的，你是硕士还是博士？我是东大的硕士，也做这个，以后可以多交流下
有做微弧氧化的同学没有，在微弧氧化硅酸钠电解液中，你们用的是无水硅酸钠还是五水硅酸钠或者九水硅酸钠，如果用的是后面两种，那是直接称取试剂还是以硅酸钠含量为基准换算后再称取相应的试剂？亟待解决
有做微弧氧化的同学没有，在微弧氧化硅酸钠电解液中，你们用的是无水硅酸钠还是五水硅酸钠或者九水硅酸钠，如果用的是后面两种，那是直接称取试剂还是以硅酸钠含量为基准换算后再称取相应的试剂？亟待解决
无水的，我们的配方是硅酸钠、氢氧化钾、氟化钾各10g
我是用九水的 问过哈工大的老师，他们说直接用就行，不用换算
王亚明老师吗？
姓jiang的一个老师
哦，那就不认识
请问为什么加氟化钾
你们做出来的颜色偏棕色？？
我们之前做过，不过不是特别黑！
这个问题有很多文献都提到过，我们针对这个问题最近也在做实验，有结果了可以再探讨！
楼主你好！请问你们的仪器是哈工大工艺技术研究院的WHD-30微弧氧化吗？我们用的就是这个设备，那个姜老师是姜德勇吗？
我也是镁合金微弧氧化，电解液里有磷酸盐，可以交流一下，我建了一个QQ群：
我在工厂做的镁表面微弧氧化，电镀时间是三分钟，电流密度要大很多
你可以去看看蒋百灵老师编的微弧氧化在海洋技术中的应用，那本书中就有关于制备黑色陶瓷膜的。
请问你所谓的无水是指你用的电解液是无水溶液吗？我有个同学正在配无水电解液，但一直没配出来呢
你好，我想问下，你的电解液300L，再做微弧的时候有没有遇到工件越多，效果越不好的情况
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扫描下载送金币一种镁合金微弧氧化处理方法
专利名称一种镁合金微弧氧化处理方法
技术领域本发明属于金属表面处理技术领域，涉及微弧氧化技术，具体涉及一种镁合金微 弧氧化处理方法。
背景技术由于镁合金材料的特性，尤其是在那些对于减轻结构自身重量具有重要意义的制 造领域，镁合金是工程塑料、铝合金和钢材的竞争者或替代品。目前镁合金被广泛应用于汽 车、航空航天、电子、军事以及核能等工业部门，去满足视听器材、计算机和通讯设备的改进 需求，以及运载工具、手工工具的“轻量化”和其他特殊的技术要求。由于镁合金的电极电 位很低，极容易被腐蚀。虽然镁合金在大气中能自然形成碱式碳酸盐膜，但这种自然氧化膜 不足以防止恶劣环境下的腐蚀，所以镁合金作为结构材料和壳体时，必须采取可靠的表面 防护措施来提高镁合金的耐蚀性。
本发明的目的在于开发一种高耐腐蚀性能并且附着力良好的镁合金微弧氧化处 理方法，利用金属微弧氧化的原理，通过对镁合金表面进行微弧氧化处理，使镁合金表面自 身生长出与基体以微沉金方式结合的陶瓷结构膜层，隔绝了镁合金表面与大气的接触，解 决了现有技术中镁合金存在的表面易腐蚀坏损的问题。本发明所采用的技术方案是，一种镁合金微弧氧化处理方法，所述的微弧氧化处 理方法包括前处理、微弧氧化、清洗、后处理。本发明所述的镁合金微弧氧化处理方法，其特征还在于，所述的微弧氧化工序处理液浓度为=Na2SiO3 4 8g/L、KF 5 10g/L、KOH 8
14g/L。本发明所述的镁合金微弧氧化处理方法按以下步骤进行步骤一、前处理，根据产品表面污染程度，于清洗槽中配制脱脂液，脱脂液中清水 与清洗剂的比例为3 10
1，PH值的一般控制在8 12之间，然后放入镁合金产品进行 脱脂、清洗；步骤二，将镁合金产品放置于配制好微弧氧化处理液的槽中，进行微弧氧化处理， 处理温度为30 40°C，槽液PH值为11 14，电导率为10 20um/cm，电压为200 450V， 时间为5 15分钟；步骤三、清洗工序，将镁合金产品悬挂于清洗间，采用喷淋式冲刷清洗，时间为 1 3分钟；步骤四、后处理，将镁合金产品置于清水槽内漂洗1 2分钟，捞起控空干。本发明所述的处理工序中所用的清洗液均采用工业纯净水。镁合金表面经微弧氧化处理后具有以下特点，1、电化学阻抗大幅升高，微弧氧化陶瓷层特有的微观结构，使它的耐腐蚀性能明
3显高于传统的表面处理膜层，极大地提高了膜层的综合性能。2、镁合金微弧氧化后镁合金表面陶瓷膜的空隙率低，极大提高膜层的耐腐蚀性 能。3、镁合金微弧氧化保护层含高温转变相，膜层硬、韧性高、耐磨性好。4、镁合金微弧氧化保护膜在基体上生长，膜层在镁合金工件表面生成均勻，与镁 合金结合紧密，不易脱落。
具体实施例方式下面结合具体实施方式
对本发明进行详细说明。一种镁合金微弧氧化处理方法，所述的微弧氧化处理方法包括前处理、微弧氧 化、清洗、后处理。镁合金微弧氧化处理方法中所述的微弧氧化工序处理液浓度为=Na2SiO3 4 Sg/ L、KF 5
10g/L、K0H 8
14g/L。本发明镁合金微弧氧化处理方法按以下步骤进行步骤一、前处理，根据产品表面污染程度，于清洗槽中配制脱脂液，脱脂液中清水 与清洗剂的比例为3 10
1，PH值的一般控制在8 12之间，然后放入镁合金产品进行 脱脂、清洗；步骤二，将镁合金产品放置于配制好微弧氧化处理液的槽中，进行微弧氧化处理， 处理温度为30 40°C，槽液PH值为11 14，电导率为10 20um/cm，电压为200 450V， 时间为5 15分钟；步骤三、清洗工序，将镁合金产品悬挂于清洗间，采用喷淋式冲刷清洗，时间为 1 3分钟；步骤四、后处理，将镁合金产品置于清水槽内漂洗1 2分钟，捞起控空干。本发明镁合金微弧氧化处理方法处理工序中所用的清洗液均采用工业纯净水。镁合金产品经本发明镁合金微弧氧化处理方法的前处理，在规定的参数范围内进 行微弧氧化处理、清洗、后处理及干燥后，在镁合金产品表面生成5 10 μ m氧化膜厚，再经 有机硅涂料喷涂，得到的膜厚为35 50 μ m，可将镁合金产品耐腐蚀性提高到1000小时以 上，远远超过了国家技术标准要求，附着力为0级。镁合金产品在微弧氧化之后，进行的一道水洗工序，因为在微弧氧化后工件表面 会存在一些微孔，经过水洗即封孔后，能将工件表面的微孔封住，减少微孔的存在而影响工 件的其他性能。工艺流程中最后一道后处理漂洗的目的是为了清洗工件在微弧氧化时遗留 于表面的残液，使工件表面更加干净清洁。实施例实施例一步骤一、前处理，根据产品表面污染程度，于清洗槽中配制脱脂液，脱脂液中清水 与清洗剂的比例为5
1，PH值为12，然后放入镁合金产品进行脱脂、清洗；步骤二，先配置微弧氧化处理液，微弧氧化处理液浓度为Na2Si038g/L、KF 5g/L、 KOH 10g/L。再将镁合金产品放置于配制好微弧氧化处理液的槽中，进行微弧氧化处理，处理温度为40°C，槽液PH值为14，电导率为20um/cm，电压为350V，时间为5分钟；步骤三、清洗工序，将镁合金产品悬挂于清洗间，采用喷淋式冲刷清洗，时间为1 分钟；步骤四、后处理，将镁合金产品置于清水槽内漂洗2分钟，捞起控空干。实施例二步骤一、前处理，根据产品表面污染程度，于清洗槽中配制脱脂液，脱脂液中清水 与清洗剂的比例为8
1，PH值为14，然后放入镁合金产品进行脱脂、清洗；步骤二，先配置微弧氧化处理液，微弧氧化处理液浓度为Na2Si038g/L、KF6g/L、 KOH 10g/L。再将镁合金产品放置于配制好微弧氧化处理液的槽中，进行微弧氧化处理，处理 温度为30°C，槽液PH值为12，电导率为15um/cm，电压为400V，时间为8分钟；步骤三、清洗工序，将镁合金产品悬挂于清洗间，采用喷淋式冲刷清洗，时间为1. 5 分钟；步骤四、后处理，将镁合金产品置于清水槽内漂洗2分钟，捞起控空干。上述实施方式只是本发明的一个实例，不是用来限制本发明的实施与权利范围， 凡依据本发明申请专利保护范围所述的内容做出的等效变化和修饰，均应包括在本发明申 请专利范围内。
一种镁合金微弧氧化处理方法，其特征在于，所述的微弧氧化处理方法包括前处理、微弧氧化、清洗、后处理。
2.根据权利要求1所述的镁合金微弧氧化处理方法，其特征在于，所述的微弧氧化工 序处理液浓度为:Na2Si03 4
8g/L、KF 5
10g/L、K0H 8
3.根据权利要求1所述的镁合金微弧氧化处理方法，其特征在于，该方法按以下步骤 进行步骤一、前处理，根据产品表面污染程度，于清洗槽中配制脱脂液，脱脂液中清水与清 洗剂的比例为3 10
1，PH值的一般控制在8 12之间，然后放入镁合金产品进行脱 脂、清洗；步骤二，将镁合金产品放置于配制好微弧氧化处理液的槽中，进行微弧氧化处理，处理 温度为30 40°C，槽液PH值为11 14，电导率为10 20um/cm，电压为200 450V，时 间为5 15分钟；步骤三、清洗工序，将镁合金产品悬挂于清洗间，采用喷淋式冲刷清洗，时间为1 3分钟；步骤四、后处理，将镁合金产品置于清水槽内漂洗1 2分钟，捞起控空干。
4.根据权利要求3所述的镁合金微弧氧化处理方法，其特征在于，所述的处理工序中 所用的清洗液均采用工业纯净水。
本发明公开了一种镁合金微弧氧化处理方法，所述的微弧氧化处理方法包括前处理、微弧氧化、清洗、后处理。本发明所述的镁合金微弧氧化处理方法中微弧氧化工序处理液浓度为Na2SiO3 4～8g/L、KF 5～10g/L、KOH 8～14g/L。本发明利用金属微弧氧化的原理，通过对镁合金表面进行微弧氧化处理，使镁合金表面自身生长出与基体以微沉金方式结合的陶瓷结构膜层，隔绝了镁合金表面与大气的接触，镁合金产品经前处理后，在规定的参数范围内进行微弧氧化处理、清洗、后处理及干燥，在产品表面生成5～10μm氧化膜厚，再经有机硅涂料喷涂，得到的膜厚为35～50μm，可将镁合金产品耐腐蚀性提高到1000小时以上，远远超过了国家技术标准要求。
文档编号C25D11/30GKSQ
公开日日 申请日期日 优先权日日
发明者孔德勇, 李卫荣, 杨洁丹, 汤铁装, 郑庆交 申请人:东莞宜安电器制品有限公司;李卫荣;杨洁丹;汤铁装一种利用微弧氧化在镁合金表面制备低太阳吸收率高发射率涂层的方法
申请号：.3 申请日：
摘要：一种利用微弧氧化在镁合金表面制备低太阳吸收率高发射率涂层的方法，它涉及一种镁合金功能化热控涂层的制备方法。本发明的目的是要解决现有应用于航天器的铝合金材料重量大，镁合金热控涂层吸收率高和镁合金基体与热控涂层高结合力低的问题。制备方法：首先对镁合金进行处理，然后采用脉冲微弧氧化电源进行微弧氧化，即完成利用微弧氧化在镁合金表面制备低太阳吸收率高发射率涂层的方法。本发明在镁合金表面制备的低太阳吸收率高发射率涂层厚度达到30μm～120μm，太阳吸收率为0.2～0.4，发射率为0.85～0.95，粗糙度为1μm～10μm。本发明可获得一种利用微弧氧化在镁合金表面制备低太阳吸收率高发射率涂层的方法。
地址： 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
发明(设计)人：
主分类号：
&实质审查的生效IPC(主分类):C25D
11/30申请日:
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
&一种利用微弧氧化在镁合金表面制备低太阳吸收率高发射率涂层的方法，其特征在于一种利用微弧氧化在镁合金表面制备低太阳吸收率高发射率涂层的方法具体是按以下步骤完成的：一、镁合金前处理：依次使用240#水磨砂纸、1000#水磨砂纸和1500#砂纸打磨镁合金表面，再使用丙酮或去离子水清洗打磨后的镁合金表面，再使用电吹风吹干，得到处理后的镁合金；二、将处理后的镁合金置于不锈钢电解槽中，处理后的镁合金与电源的正极相连接，作为阳极；不锈钢电解槽与电源的负极相连接，作为阴极；三、采用脉冲微弧氧化电源供电，在电流密度为1A·dm?2～20A·dm?2，正向电压为200V～700V，电源频率10Hz～3000Hz，占空比10％～50％，电解液的温度为20℃～50℃和电解液的pH值为8.5～13.0的条件下进行微弧氧化反应5min～60min，即完成利用微弧氧化在镁合金表面制备低太阳吸收率高发射率涂层的方法；步骤三中所述的电解液由主成膜剂、辅助成膜剂和添加剂组成，溶剂为水；所述的电解液中主成膜剂的浓度为0.2g/L～20g/L，辅助成膜剂的浓度为0.1g/L～15g/L，添加剂的浓度为0.3g/L～5g/L。
专利代理机构
进入国家日期
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一种镁合金表面制备微弧氧化陶瓷膜层的方法
【专利摘要】本发明涉及一种镁合金表面制备微弧氧化陶瓷膜层的方法，通过控制微弧氧化电源的占空比、频率，可以有效的调节微弧氧化膜层中的孔隙含量和孔隙大小，进而控制微弧氧化膜层的硬度；同时，通过压缩空气搅拌系统可使微弧氧化过程中分散热量，防止溶液局部过热。本发明可以保证微弧氧化陶瓷膜层外观均匀连续、一致，膜层硬度控制在HV400以上，耐盐雾时间1000小时以上，同时膜层与基体结合强度达到40MPa以上。
【专利说明】一种镁合金表面制备微弧氧化陶瓷膜层的方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种镁合金表面制备防护膜层方法,尤其是一种镁合金表面制备微弧氧化陶瓷膜层的方法。
【背景技术】
[0002]镁合金由于密度小，比强度较高，在航空领域应用非常广泛，在航空发动机零部件中大量采用镁合金制造。但镁合金由于电化学性质活泼和材料硬度低，零件在使用过程中易发生电化学腐蚀和磨损腐蚀。目前，国内现在采用的防护方法为氟化、铬酸盐处理等，这些传统的表面处理方法尽管可以提高镁合金的耐蚀性，但工艺要求严格，且膜层比较薄、致密性差、不耐磨损；微弧氧化技术是利用发生在电极与溶液界面上的微等离子体放电现象在轻金属表面生长陶瓷膜的一种先进的表面处理技术，其制备的陶瓷膜层既耐腐蚀，膜层硬度又较高。在航空产品中对该膜层技术要求较高，包括可使镁合金表面硬度HV400以上，耐盐雾时间1000小时，与基体结合强度40 MPa以上，目前国内现有的微弧氧化方法无法满足上述要求。
【发明内容】
[0003]本发明的目的是提供一种镁合金表面制备微弧氧化陶瓷膜层的方法，可使微弧氧化陶瓷膜层外观均匀连续、一致，膜层硬度控制在HV400以上，耐盐雾时间1000小时以上，同时膜层与基体结合强度达到40MPa以上。
[0004]本发明的技术方案为，所述的微弧氧化方法包括以下步骤:
(1)除油:对零件表面进行净化处理，采用丙酮或酒精对零件的待微弧氧化表面进行擦洗，将表面的油污除去；
(2)防护:采用保护装置将零件的非微弧氧化表面进行防护；
(3)配制微弧氧化溶液:微弧氧化溶液的配制方法为在水中依次加入I~3g/L的氢氧化钠、13~17g/L的硅酸钠、2~4g/L的氟化钠和I~3g/L的四硼酸钠，并充分溶解后再加入微弧氧化主槽；
(4)连接:将微弧氧化表面全部浸入微弧氧化槽液中，用导线将零件和微弧氧化设备的阳极连接，连接的原则为:保证将不氧化部位绝缘，所有导电部位接触良好，同时不产生压气现象；
(5)微弧氧化:微弧氧化的参数为:
温度16°C~22°C
电流密度0.9A/dm2 土 0.ΙΑ/dm2
时间50min ~70min
频率1000HZ
占空比正向50%;负向50%
阴极不锈钢板在整个微弧氧化过程中槽液底部采用洁净干燥的压缩空气搅拌，采用聚四氟循环冷却管装置控制槽液温度，微弧氧化完成后，停止冷却；然后将零件从阳极上卸下；
(6)水洗:使用自来水冲洗零件表面，冲洗至零件水膜连续均匀、不断裂为止；
(7)吹干:采用洁净干燥的压缩空气吹干零件表面，去除零件表面的保护装置；
(8)封孔:采用封孔剂对微弧氧化后的微孔进行封孔；
(9)最终检验。
[0005]以上步骤中，所述的保护装置为耐高温胶带、薄金属片或根据零件形状设计的可将非微弧氧化表面进行防护的专用工装；采用的微弧氧化设备为哈工大的WHD-300型微弧氧化电源设备；所述的封孔剂为有机类封孔剂，如dichtol-WFT-#1532常温封孔剂。
[0006]本发明具有的优点效果，采用本方法可以通过控制微弧氧化电源的占空比、频率，可以有效的调节微弧氧化膜层中的孔隙含量和孔隙大小，进而控制微弧氧化膜层的硬度；同时，通过压缩空气搅拌系统可使微弧氧化过程中分散热量，防止溶液局部过热。通过本发明进行的微弧氧化，可以保证微弧氧化陶瓷膜层外观均匀连续、一致，膜层硬度控制在HV400以上，耐盐雾时间1000小时以上，同时膜层与基体结合强度达到40MPa以上。
【具体实施方式】
[0007]—种镁合金表面制备微弧氧化陶瓷膜层的方法，其具体步骤包括:
(1)除油:对零件表面进行净化处理，采用丙酮或酒精对零件的待微弧氧化表面进行擦洗，将表面的油污除去；
(2)防护:采用保护装置将零件的非微弧氧化表面进行防护；
(3)配制微弧氧化溶液:微弧氧化溶液的配制方法为在水中依次加入I~3g/L的氢氧化钠、13~17g/L的硅酸钠、2~4g/L的氟化钠和I~3g/L的四硼酸钠，并充分溶解后再加入微弧氧化主槽；
(4)连接:将微弧氧化表面全部浸入微弧氧化槽液中，用导线将零件和微弧氧化设备的阳极连接，连接的原则为:保证将不氧化部位绝缘，所有导电部位接触良好，同时不产生压气现象；
(5)微弧氧化:微弧氧化的参数为:
【权利要求】
1.一种镁合金表面制备微弧氧化陶瓷膜层的方法，其特征是，所述的方法包括以下步骤:
(1)除油:对零件表面进行净化处理，采用丙酮或酒精对零件的待微弧氧化表面进行擦洗，将表面的油污除去；
(2)防护:采用保护装置将零件的非微弧氧化表面进行防护；
(3)配制微弧氧化溶液:微弧氧化溶液的配制方法为在水中依次加入I~3g/L的氢氧化钠、13~17g/L的硅酸钠、2~4g/L的氟化钠和I~3g/L的四硼酸钠，并充分溶解后再加入微弧氧化主槽；
(4)连接:将微弧氧化表面全部浸入微弧氧化槽液中，用导线将零件和微弧氧化设备的阳极连接，连接的原则为:保证将不氧化部位绝缘，所有导电部位接触良好，同时不产生压气现象；
(5)微弧氧化:微弧氧化的参数为: 温度16°C~22°C
电流密度0.9A/dm2 土 0.lA/dm2 时间50min ~70min 频率1000HZ 占空比正向50%;负向50%阴极不锈钢板
在整个微弧氧化过程中槽液底部采用洁净干燥的压缩空气搅拌，采用聚四氟循环冷却管装置控制槽液温度，微弧氧化完成后，停止冷却；然后将零件从阳极上卸下；
(6)水洗:使用自来水冲洗零件表面，冲洗至零件水膜连续均匀、不断裂为止；
(7)吹干:采用洁净干燥的压缩空气吹干零件表面，去除零件表面的保护装置；
(8)封孔:采用封孔剂对微弧氧化后的微孔进行封孔；
(9)最终检验。
2.如权利要求1所 述的一种镁合金表面制备微弧氧化陶瓷膜层的方法，其特征是，所述的保护装置为耐高温胶带、薄金属片或根据零件形状设计的可将非微弧氧化表面进行防护的专用工装。
3.如权利要求1所述的一种镁合金表面制备微弧氧化陶瓷膜层的方法，其特征是，所述的封孔剂为有机类封孔剂。
4.如权利要求3所述的一种镁合金表面制备微弧氧化陶瓷膜层的方法，其特征是，所述的封孔剂为dichtol-WFT-#1532常温封孔剂。
【文档编号】C25D21/10GKSQ
【公开日】日
申请日期:日
优先权日:日
【发明者】孙忠武, 师玉英, 张旭, 田翠翠, 吴彦芬, 张彦飞
申请人:哈尔滨东安发动机（集团）有限公司